图形转移用掩膜

2007/8/10 15:04:24

以重铬酸盐为感光剂的胶体　　以重铬酸盐为感光剂的掩膜，均以虫胶、骨胶、明胶和聚乙烯醇作为胶体。胶体中加入重铬酸盐后成为感光胶（涂在板面形成掩膜），经过涂布、干燥、曝光、显影制出图形。紫外线照射时重铬酸盐在胶体中发生化学反应，感光部分形成Cr3+并与胶体中的蛋白质形成不溶于水的部分仍为六价铬的感光胶体，显影后被水冲走，废水中含有六价铬污染水源和环境。进入20世纪80年代以后，此工艺逐渐被淘汰。抗蚀油墨　　此掩膜经过长时间不断改进，其使用性能和抗蚀性能都有很大提高。最初，这种油墨均由使用者自己配制，因材料来源各异和设备不完善，质量不是很稳定。后来有了专业生产厂制造抗蚀油墨，质量才有所改观。但生产时需大量的溶剂，不仅提高了成本，而且造成了空气污染。以UV固化或热固化后用弱碱去膜的油墨使用较方便，但其是通过丝网将图型漏印在板面上，限制了它的分辨率。当漏印线宽和线宰的尺寸在0.2mm以下时很难操作。也就是说它只能用于图形中的粗线和一般线条。手工操作时对于操作者的技术要求较高，重复性不好。干膜抗蚀剂　　干膜抗蚀剂俗称干膜，于20世纪70年代初进入我国，是电路板制造图形应用最广泛的掩膜。干膜的应用为我国电路板的图形转移工艺开创了新篇章，使电路板工业发展速度加快。干膜的制造技术有一定难度，且设备及检测仪器投资较大，国内只有少数厂家生产，品质也只能满足一般产品的需要。干膜占电路板制造成本相当大的比重，国内所需干膜大多需进口，且进口的品牌、厚度、规格等不断增加。目前电路板的价格一降再降，许多厂家不得不探索其他降低成本的出路。干膜需要专用设备，若不是系统生产或自动化生产，边料出的多，浪费大。生产时产生的废料需进行处理，这些都是厂家所要考虑的。因此，需要寻求一种新型感光掩膜材料代替干膜。转载自：《中国化工报》

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