B.电晕处理强度越小，出现膜表面反弹张力反弹现象较早；但电晕处理强度大者反弹程度大。 C.相同的添加剂，加入配比大者表面张力出现反弹早，但配比较小者表面张力反弹程度大。 D.迁移性能较强的添加剂会出现表面张力反弹现象，而反弹的程度较大。 E.环境温度越高出现反弹的机会越大；而温度低到一定程度很难观测到反弹现象。 这种反弹现象，我们又做了许多关于膜表面静电变化的图，下面列举一例见21表：测试日期5.8 5.95.10 5.205.316.186.287.47.10表面张力46 41 39393838383838.5三分钟衰减或半衰减 20.7％14.2％16.8％16.7％15.1％ 25.8％半衰期为53.4s 半衰期为5.3s 48.3％ 薄膜在生产加工过程中，尤其在铸片和拉伸时，会有一些低分子量的物质（包括迁移性添加剂成份）运动到膜表面，所以刚生产出来的膜就有一定的抗静电能力，但放置1－2天后，表面的这些成份挥发掉，而此时迁移性成份还没有迁移出来，所以表面的静电较大，一般一周后，部分抗静电成份迁移到表面，表现为静电减小，如果抗静电成份迁移的快，一段时间后我们可以测得膜的静电关衰期，电晕也是随着它的迁移而衰减，但当膜表面这种迁移性分子达到一定的浓度，就会出现一次大量挥发，挥发后的膜表面又会恢复与最初电晕后类似的粗糙表面，膜的抗静电性同时减弱，这就是电晕反弹的原因。 我们同样可以以27.5u光膜，未加入迁移性添加剂膜的电晕衰减为例来证明反弹的原因，如下表：测试日期 6.226.256.26 6.27 6.28 7.2 7.67.97.187.25电晕（达因）46 40 40 40 40 39 39 39 39 39 这样我们就好分析上述5例了，也就是电晕衰减越快，则其抗静电成份就会在电晕衰减的同时一点点挥发掉，而衰减慢的膜表面则会形成积累挥发。而上后，最初的1－2天内电晕衰减的最快，然后慢慢衰减，在这么短的时间内抗静电成份还未迁移出来。膜内外极性基团运动的也不会太快，那么电晕衰减快的主要原因只有膜本身的应力恢复过程。 6.结论： 经过多组膜的电晕测试及分析，我们知道膜表面张力的变化与电晕处理强度、生产速度、环境温度、原料配方、选用原料、薄膜厚度均有关系，该结论是经实验得出，可能存在片面性，如各界人士存其它意见，还需共同探讨。（完）
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